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Ippubblikat22/04/2020
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Skadenza04/06/2020
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Aġġudikat10/08/2020
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Illum21/09/2026
Utilitajiet
il-Ġermanja-Ilmenau: Makkinarju industriali
Im Rahmen des Projektes ForLab NSME wird eine Prozesslinie zur Fertigung neuromorpher Elektronik aufgebaut. Innerhalb dieser Prozesslinie wird eine chemisch-mechanische Polieranlage (CMP) zur Planarisierung der Prozesstopografie benötigt. Diese soll den Aufbau komplexer Systemarchitekturen im Materialsystem Nb/SiO2 mit einer Vielzahl von Aufbauebenen ermöglichen. Sie ist darüber hinaus Voraussetzung für die heterogene (back-end) Integration der Technologie auf CMOS-prozessierten Wafern. Bei beiden Prozessen müssen störende Topographieeffekte reduziert werden, um die angestrebte Performance zu erreichen. Weiterhin muss die Anlage geeignet sein, quadratische LTCC-Substrate mit Schichtaufbauten z. B. aus Aluminiumnitrid zu planarisieren.
https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=323504
Indirizz postali: Carl-Friedrich-Benz-Str. 5
Belt: Willich
Kodiċi postali: 47877
Pajjiż: DEU
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