-
Közzétéve22/04/2020
-
Határidő04/06/2020
-
Udzielono10/08/2020
-
Dzisiaj07/10/2026
Kisegítő alkalmazások
Németország-Ilmenau: Ipari gépek
Im Rahmen des Projektes ForLab NSME wird eine Prozesslinie zur Fertigung neuromorpher Elektronik aufgebaut. Innerhalb dieser Prozesslinie wird eine chemisch-mechanische Polieranlage (CMP) zur Planarisierung der Prozesstopografie benötigt. Diese soll den Aufbau komplexer Systemarchitekturen im Materialsystem Nb/SiO2 mit einer Vielzahl von Aufbauebenen ermöglichen. Sie ist darüber hinaus Voraussetzung für die heterogene (back-end) Integration der Technologie auf CMOS-prozessierten Wafern. Bei beiden Prozessen müssen störende Topographieeffekte reduziert werden, um die angestrebte Performance zu erreichen. Weiterhin muss die Anlage geeignet sein, quadratische LTCC-Substrate mit Schichtaufbauten z. B. aus Aluminiumnitrid zu planarisieren.
https://www.evergabe-online.de/tenderdetails.html?id=323504
Postai cím: Carl-Friedrich-Benz-Str. 5
Település: Willich
Irányítószám: 47877
Ország: DEU
Ennek az oldalnak a tartalma, melyet csupán kiegészítő szolgáltatásként teszünk közzé, nem vált ki joghatást. Az EU intézményei semmiféle felelősséget nem vállalnak az oldal tartalmáért. A pályázati felhívások hivatalos változatai azok, amelyek az Európai Unió Hivatalos Lapjának kiegészítésében jelennek meg, és amelyek elérhetők a TED portálon. Az említett hivatalos szövegek közvetlenül hozzáférhetők az ezen az oldalon elhelyezett linkeken keresztül. További információkért kérjük, olvassa el a közbeszerzésekre vonatkozó megmagyarázhatósági és felelősségi nyilatkozatot.