Publications Office of the EU
Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems - Uniós pályázatok
DisplayCustomHeader
MyPortal
Nyelvválasztó
magyar
BasketSummary
Procurement Detail Actions Portlet

Kisegítő alkalmazások

Procurement Detail Actions Portlet
OP Portal - Procurement - Details

Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems

Áttekintés
  • Közzétéve
    09/04/2025
  • Határidő
    12/05/2025
  • Az ajánlatok felbontása
    13/05/2025
  • Udzielono
    12/06/2025
  • Dzisiaj
    20/02/2026
Állapot
Odaítélve
A szerződés típusa
Supplies
Megújítható
No
Vevő
University of Jyväskylä
A teljesítés helye
NUTS code: Egynél több teljesítés hely
A vevő székhelye
NUTS code: FI193 Keski-Suomi
Sektor działalności (główny kod CPV)
38000000 Laboratóriumi, optikai és precíziós felszerelések (kivéve szemüvegek)
A szerződés becsült összértéke (héa nélkül)
Nem áll rendelkezésre
A szerződés végleges összértéke (héa nélkül)
Nem áll rendelkezésre
Részek száma
2
Az eljárás adatai
Felhívás hivatkozási száma
49/02.03.00.00/2025
Leírás

University of Jyväskylä (JYU) is inviting tenders for a combination of an electron beam lithography system (EBL) and a laser beam lithography system (LBL), both capable of mix-and-match processing based on CAD drawings in GDSII file format. We are searching a Dedicated EBL tool AND a Dedicated LBL tool for research and development of state of the art micro- and nano-scale features requiring high fidelity in patterning and edge smoothness. Contracting authority has a need for high precision and versatile lithography tools for patterning of optical wave guides and lattices, phononic crystals and mechanic resonators; with the goal of investigating quantum phenomena and the interplay between such structures. Contracting authority has a need for the lithography tools to support integration of high fidelity nano-scale features into considerably larger designs, such as microfluidic networks with widths of about 100 um and lengths of several mm. Therefore, contracting authority puts emphasis on the two lithography systems having good support for mix-and-match lithography, i.e. well documented procedures for sharing CAD pattern libraries for straightforward implementation in mix-and-match exposures on the same resist layer. The EBL and LBL systems should manage mix-and-match exposures with resists such as Shipley S1813, SU-8 and AZ5200-E series.

Benyújtás módja
Elektronikusan:
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Ajánlatok benyújthatók
Elektronikus benyújtás: szükséges
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Közbeszerzési szerződéssel, keretmegállapodással vagy dinamikus beszerzési rendszerrel kapcsolatos információk
Nem áll rendelkezésre
Az ajánlatok felbontásának feltételei (időpont)
13/05/2025 09:00
Place of performance
FI193 Keski-Suomi
FI Suomi/Finland
Any country
CPV-kód

38000000 - Laboratóriumi, optikai és precíziós felszerelések (kivéve szemüvegek)

Részek (2)
Dokumentumok
Előzetes tájékoztatás
Szerződés
Odaítélés
Footnote - legal notice

Ennek az oldalnak a tartalma, melyet csupán kiegészítő szolgáltatásként teszünk közzé, nem vált ki joghatást. Az EU intézményei semmiféle felelősséget nem vállalnak az oldal tartalmáért. A pályázati felhívások hivatalos változatai azok, amelyek az Európai Unió Hivatalos Lapjának kiegészítésében jelennek meg, és amelyek elérhetők a TED portálon. Az említett hivatalos szövegek közvetlenül hozzáférhetők az ezen az oldalon elhelyezett linkeken keresztül. További információkért kérjük, olvassa el a közbeszerzésekre vonatkozó megmagyarázhatósági és felelősségi nyilatkozatot.