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Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems - Ausschreibungen der EU
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OP Portal - Procurement - Details

Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems

Überblick
  • Veröffentlicht
    09/04/2025
  • Frist
    12/05/2025
  • Öffnung der Angebote
    13/05/2025
  • Vergeben
    12/06/2025
  • Heute
    19/02/2026
Status
Vergeben
Art des Auftrags
Supplies
Neuausschreibung
No
Käufer
University of Jyväskylä
Erfüllungsort
NUTS code: Mehrere Erfüllungsorte
Standort des Käufers
NUTS code: FI193 Keski-Suomi
Wirtschaftszweig (Haupt-CPV)
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Geschätzter Gesamtauftragswert (ohne MwSt.)
Nicht verfügbar
Endgültiger Gesamtauftragswert (ohne MwSt.)
Nicht verfügbar
Anzahl der Lose
2
Angaben zum Verfahren
Referenznummer der Ausschreibung
49/02.03.00.00/2025
Beschreibung

University of Jyväskylä (JYU) is inviting tenders for a combination of an electron beam lithography system (EBL) and a laser beam lithography system (LBL), both capable of mix-and-match processing based on CAD drawings in GDSII file format. We are searching a Dedicated EBL tool AND a Dedicated LBL tool for research and development of state of the art micro- and nano-scale features requiring high fidelity in patterning and edge smoothness. Contracting authority has a need for high precision and versatile lithography tools for patterning of optical wave guides and lattices, phononic crystals and mechanic resonators; with the goal of investigating quantum phenomena and the interplay between such structures. Contracting authority has a need for the lithography tools to support integration of high fidelity nano-scale features into considerably larger designs, such as microfluidic networks with widths of about 100 um and lengths of several mm. Therefore, contracting authority puts emphasis on the two lithography systems having good support for mix-and-match lithography, i.e. well documented procedures for sharing CAD pattern libraries for straightforward implementation in mix-and-match exposures on the same resist layer. The EBL and LBL systems should manage mix-and-match exposures with resists such as Shipley S1813, SU-8 and AZ5200-E series.

Einreichungsmethode
Elektronisch über:
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Form, in der die Angebote einzureichen sind
Elektronische Einreichung: erforderlich
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Informationen über einen öffentlichen Auftrag, eine Rahmenvereinbarung oder ein dynamisches Beschaffungssystem
Nicht verfügbar
Bedingungen für die Öffnung der Angebote (Datum)
13/05/2025 09:00
Erfüllungsort
FI193 Keski-Suomi
FI Suomi/Finland
Any country
CPV-Code

38000000 - Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Lose (2)
Unterlagen
Vorinformation
Auftrag
Vergabe
Footnote - legal notice

Der auf dieser Seite veröffentlichte Inhalt ist ausschließlich als zusätzliche Informationsquelle gedacht und entfaltet keinerlei Rechtswirkung. Die Organe der Union übernehmen keine Haftung für seinen Inhalt. Die amtlichen Fassungen der jeweiligen Ausschreibungsbekanntmachungen sind in der Ergänzung zum Amtsblatt der Europäischen Union veröffentlicht und in TED verfügbar. Diese amtlichen Texte sind über die Links auf dieser Seite unmittelbar zugänglich. Weitere Informationen sind der Bekanntmachung über die Erklärbarkeit und Haftung des öffentlichen Auftragswesens zu entnehmen.