Publications Office of the EU
Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems - EU-udbud
DisplayCustomHeader
MyPortal
Sprogvælger
dansk
BasketSummary
Procurement Detail Actions Portlet

Værktøjer

Procurement Detail Actions Portlet
OP Portal - Procurement - Details

Electron beam lithography (EBL) and laser beam lithography (LBL) systems

Oversigt
  • Offentliggjort
    09/04/2025
  • Frist
    12/05/2025
  • Åbning af tilbuddene
    13/05/2025
  • Tildelt
    12/06/2025
  • I dag
    17/02/2026
Status
Tildelt
Kontrakttype
Supplies
Genstand for fornyelse
No
Indkøber
University of Jyväskylä
Udførelsessted
NUTS code: Flere udførelsessteder
Indkøbers beliggenhed
NUTS code: FI193 Keski-Suomi
Sektor (hoved-CPV)
38000000 Laboratorieudstyr, optisk udstyr og præcisionsudstyr (ikke briller)
Samlet anslået kontraktværdi (ekskl. moms)
Ikke til rådighed
Samlet endelig kontraktværdi (ekskl. moms)
Ikke til rådighed
Antal delkontrakter
2
Oplysninger om proceduren
Referencenummer for tilbuddet
49/02.03.00.00/2025
Beskrivelse

University of Jyväskylä (JYU) is inviting tenders for a combination of an electron beam lithography system (EBL) and a laser beam lithography system (LBL), both capable of mix-and-match processing based on CAD drawings in GDSII file format. We are searching a Dedicated EBL tool AND a Dedicated LBL tool for research and development of state of the art micro- and nano-scale features requiring high fidelity in patterning and edge smoothness. Contracting authority has a need for high precision and versatile lithography tools for patterning of optical wave guides and lattices, phononic crystals and mechanic resonators; with the goal of investigating quantum phenomena and the interplay between such structures. Contracting authority has a need for the lithography tools to support integration of high fidelity nano-scale features into considerably larger designs, such as microfluidic networks with widths of about 100 um and lengths of several mm. Therefore, contracting authority puts emphasis on the two lithography systems having good support for mix-and-match lithography, i.e. well documented procedures for sharing CAD pattern libraries for straightforward implementation in mix-and-match exposures on the same resist layer. The EBL and LBL systems should manage mix-and-match exposures with resists such as Shipley S1813, SU-8 and AZ5200-E series.

Indsendelsesmetode
Elektronisk via:
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Tilbud kan afgives
Elektronisk indsendelse: påkrævet
https://tarjouspalvelu.fi/jyu?id=554652&tpk=f5818810-6526-450c-9dc2-46e72a8a5aec
Oplysninger om en offentlig kontrakt, en rammeaftale eller et dynamisk indkøbssystem
Ikke til rådighed
Fremgangsmåden ved åbning af tilbud (dato)
13/05/2025 09:00
Udførelsessted
FI193 Keski-Suomi
FI Suomi/Finland
Any country
CPV-kode

38000000 - Laboratorieudstyr, optisk udstyr og præcisionsudstyr (ikke briller)

Delkontrakter (2)
Dokumenter
Forudgående oplysninger
Kontrakt
Tildeling
Footnote - legal notice

Det indhold, der offentliggøres på denne side, er udelukkende tænkt som en supplerende tjeneste og har ingen retsvirkning. EU's institutioner påtager sig intet ansvar for dens indhold. De officielle udgaver af de relevante udbudsbekendtgørelser er dem, der er offentliggjort i tillægget til Den Europæiske Unions Tidende og findes i TED. Disse officielle tekster er tilgængelige direkte via linkene på denne side. Yderligere oplysninger findes i meddelelsen om udbudsbetingelser og ansvar.